Odstúpenie od zmluvy
Chemické procesní inženýrství a simulační metody I. - Teoretické podklady

Chemické procesní inženýrství a simulační metody I.
Teoretické podklady

První díl skript seznamuje čtenáře se základy procesního inženýrství a uvádí přehled všeho, co student potřebuje pro pochopení nejdůl…

AutorTomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová
VydavateľVŠCHT Praha
Rok vydania2021
Počet strán249
Rozmery205 x 290 mm
JazykCZ Český jazyk
Väzbabrožovaná
Váha650
EAN9788075920836
ISBN978-80-7592-083-6
ŽánerChémia, biochémia

23,27 €

Objednajte si tovar spolu nad 70,00 €
a poštovné máte zadarmo!

Viac o produkte

První díl skript seznamuje čtenáře se základy procesního inženýrství a uvádí přehled všeho, co student potřebuje pro pochopení nejdůležitějšího nástroje, kterým jsou principy simulačních metod. V textu jsou popsány stacionární modely jednotkových operací, které slouží jako stavební prvky pro modely celých procesů a současně jsou zde představeny metody řešení simulačních modelů. Publikace také obsahuje přehled fyzikálně-chemických metod, které jsou pro simulační modely klíčové. Kromě stacionární simulace je pozornost věnována i dynamickému chování procesů včetně řídicího systému. V textu je také vyhrazen prostor pro základy teorie grafů, používané k analýze proudových schémat a pro přehled vybraných numerických metod.

Back